深圳晶源申请掩模板处理专利，提升集成电路掩模设计效果

金融界2025年5月1日消息，国家知识产权局信息显示，深圳晶源信息技术有限公司申请一项名为“掩模板处理方法、装置、设备、介质及产品”的专利，公开号CN119882343A，申请日期为2025年2月。

专利摘要显示，本申请公开了一种掩模板处理方法、装置、设备、介质及产品，涉及集成电路掩模设计技术领域。该方法包括：获取初始掩模板中掩模图形的图形属性与图形位置；根据各图形位置，将满足预设冲突关系的掩模图形划分至同一个冲突单元，得到多个冲突单元；将冲突单元属性相同的各冲突单元，划分至同一个冲突单元组，得到多个冲突单元组；对于每个冲突单元组，将冲突单元组中第一单元的各掩模图形，按照预设划分规则划分至对应子掩模组，得到第一图形划分结果；对于每个冲突单元组，根据第一图形划分结果，将冲突单元组中的第二单元的各掩模图形划分至对应子掩模组，得到第二图形划分结果；根据第一图形划分结果和第二图形划分结果，生成多个子掩模板。

天眼查资料显示，深圳晶源信息技术有限公司，成立于2016年，位于深圳市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本5000万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳晶源信息技术有限公司参与招投标项目5次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息125条，此外企业还拥有行政许可8个。

本文源自：金融界

作者：情报员