上海创曜辉申请低雾度量子点转光胶膜专利，光稳定性优异

金融界 2025 年 5 月 8 日消息，国家知识产权局信息显示，上海创曜辉应用材料技术有限公司申请一项名为“一种低雾度量子点转光胶膜的制备方法”的专利，公开号 CN119931537A，申请日期为 2025 年 3 月。

专利摘要显示，本发明提供一种低雾度量子点转光胶膜的制备方法，包括以下步骤：采用金属卤盐溶液对量子点表面进行配体交换，去除长链有机配体，形成无机配体修饰的量子点溶液；将量子点溶液与 EVA 粒子混合，经过熔融、挤出、造粒制备色母粒子；将色母粒子与 EVA 粒子及交联剂、助交联剂、硅烷偶联剂、光稳定剂、抗氧剂等辅助成分混合均匀，经过熔融挤出和流延成型制备出低雾度量子点转光胶膜。本发明的制备方法工艺简单、可控性强，适合规模化生产，制备的胶膜具有高分散性、低雾度、高透光率和优异的光稳定性，可广泛应用于光伏组件、显示器和照明设备等领域。

天眼查资料显示，上海创曜辉应用材料技术有限公司，成立于2024年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本10000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海创曜辉应用材料技术有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目3次，专利信息11条，此外企业还拥有行政许可2个。

本文源自：金融界

作者：情报员