上海致宇信息技术有限公司申请印章图像背景干扰识别专利，可对印章图像背景干扰进行精确识别

金融界 2025 年 4 月 30 日消息，国家知识产权局信息显示，上海致宇信息技术有限公司申请一项名为“一种印章图像背景干扰的识别方法”的专利，公开号 CN119888753A，申请日期为 2024 年 12 月。

专利摘要显示，本发明公开了一种印章图像背景干扰的识别方法，包括以下步骤：步骤 S1：读取印章图像，对印章图像进行预处理；步骤 S2：将印章图像分割为前景图像和背景图像，并从前景图像中提取前景轮廓；步骤 S3：根据背景图像的直方图，计算出符合背景图像明度区间的自适应明度值；步骤 S4：计算前景图像各轮廓的最小外接矩形面积；步骤 S5：印章图像背景干扰判定。本发明基于印章图像前景与背景信息之间的特征差异和基于图像明度的特征差异，对印章图像背景中的文字、表格线段等干扰信息进行精确识别，为后续的印章背景干扰去除和印章识别提供了参考信息。

本文源自：金融界

作者：情报员