拓荆键科申请高精量测系统中的自动聚焦的方法专利，提高聚焦精度

金融界2025年4月24日消息，国家知识产权局信息显示，拓荆键科（海宁）半导体设备有限公司申请一项名为“一种高精量测系统中的自动聚焦的方法”的专利，公开号CN119810206A，申请日期为2024年11月。

专利摘要显示，本发明涉及半导体高精密设备的量测领域，更具体的说，涉及一种高精量测系统中的自动聚焦的方法。通过高精成像设备获取待测图像，将所述待测图像设置AOI区域；根据所述待测图像的AOI区域图像绘制掩模区域，用于得到待测目标图像，所述待测目标图像包括多个子目标图像；根据所述待测目标图像，获取AOI区域图像清晰度最大值对应的位置；根据所述AOI区域清晰度最大值对应的位置，获得所述待测图像的聚焦位置，高精成像设备在所述聚焦位置采集图像。本发明通过采用局部聚焦功能，掩模功能和多项式拟合方式，不仅提高了聚焦精度，还减少误差，提升测量准确性。

天眼查资料显示，拓荆键科（海宁）半导体设备有限公司，成立于2020年，位于嘉兴市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本1067.5409万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆键科（海宁）半导体设备有限公司参与招投标项目5次，财产线索方面有商标信息7条，专利信息88条，此外企业还拥有行政许可5个。

本文源自：金融界

作者：情报员