同方威视申请多能成像系统及方法专利，能获得射线辐射的能谱中的多种能量成分中的至少一种

金融界2025年4月16日消息，国家知识产权局信息显示，同方威视技术股份有限公司申请一项名为“多能成像系统及方法”的专利，公开号CN 119827535 A，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，一种多能成像系统及方法，多能成像系统包括：多能谱辐射源（10），被配置为产生多种射线辐射中的至少一种，所述多种射线辐射具有不同最大能量的能谱；多能谱探测器（20），能够获得射线辐射的能谱中的多种能量成分中的至少一种；和处理器（30），与所述多能谱辐射源（10）和所述多能谱探测器（20）信号连接，被配置为获得穿过被检对象的所述多种射线辐射和所述多种能量成分之间的至少两种配合方式的能谱图像数据。

天眼查资料显示，同方威视技术股份有限公司，成立于2000年，位于北京市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本18500万人民币。通过天眼查大数据分析，同方威视技术股份有限公司共对外投资了14家企业，参与招投标项目2550次，财产线索方面有商标信息291条，专利信息3885条，此外企业还拥有行政许可46个。

本文源自：金融界

作者：情报员