全球有4大光刻机厂商, 中国占1家, 但落后太远了

光刻机其实分两种，一种是前道光刻机，也就是制造芯片的光刻机，一种是后道光刻机，也就是封测使用的光刻机。

这两种光刻机都非常重要，在芯片制造过程中应用非常广，非常关键，但一般大家指的光刻机均指的是前道光刻机，因为后道光刻机相求相对简单，能生产的企业也非常多，并没有那么的关键。

前道光刻机，目前全球仅4家，这4家企业，技术参差不齐，差距巨大，最先进的光刻机，仅一家能够生产，所以全球光刻机产业，是当前整个芯片行业，最容易被卡脖子的一关。

这4家光刻机厂商，分别是荷兰的ASML（阿斯麦）、日本的尼康（Nikon）、日本的佳能（Canon）和中国的上海微电子装备有限公司（SMEE）。

ASML成立于1984年，前身其实是飞利浦的一个部门，后来独立出来的，经过了这么40多年的发展，成为了光刻机领域最牛的存在，也是唯一能够生产EUV光刻机的厂商，台积电、三星、英特尔等企业在EUV设备方面100%依赖于它。

ASML成立之前，其实像佳能、尼康早就是巨头了，但错过了浸润式这个机会，最后被ASML踩要脚下，只能说是徒呼奈何。

尼康成立于1917年，超过100年的时间了，自20世纪70年代以来，一直是光刻机的领军者，在193nm的DUV光刻机上，其实是领先于ASML的。但后来错过了浸润式DUV的机会，被ASML反超。

如今尼康能制造浸润式DUV光刻机，但都是与ASML有合作的，且份额也相当少，完全可以忽略，至于EUV，那就不行了，没有这个水平。

日本佳能成立于1937年，至今快要100年了，在20世纪70年代，与尼康一样，都是光刻机领军者，同样是错过了浸润式DUV光刻机，只能制造DUV光刻机，所以也是越来越不行了，如今也没有搞出浸润式，更不要提EUV了，完全被ASML踩在脚下了。

上海微电子成立于2002年，至今23年历史，其水平也是DUV光刻机的水平，至今没有搞定浸润式DUV光刻机，更不要说EUV了。

所以说，虽然全球有4大光刻机厂商，但技术差距巨大，ASML断层式领先，而尼康技术落后一大截，再佳能、上海微电子再落后一大截。

不过，由于上海微电子成立时间确实很短，所以落后也是正常的，想想ASML只花40来年，就成为全球第一，且垄断先进光刻机市场，所以上海微电子同样有机会，说不定哪天就追上来了。